- البريد الإلكتروني
- الهاتف
-
العنوان
باوان منطقة شنتشن بمقاطعة قوانغدونغ
Shenzhen Zetuo Biotechnology Co., Ltd
باوان منطقة شنتشن بمقاطعة قوانغدونغ
تستخدم فقط في التجارب على الحيوانات ، الخ .
| الركيزة / بوابة | السيليكون (منشط ب) |
| بوابة عازلة | 300 نانومتر ثاني أكسيد السيليكون المزروع حراريا |
| مصدر الصرف الكهربائية | البلاتين (100 نانومتر) / طبقة الالتصاق التيتانيوم (5 نانومتر) |
| طريقة الإيداع | رذاذ البلازما |
| طريقة النمط | التصوير الضوئي |
أوسيلا رقاقة s403 OFET اختبار رقاقة s411
تتميز Ossila High Density Substrates بـ 20 OFET التي يمكن أن تفيد بحثك بعدد من الطرق. أولا، تقلل تكلفة الإنتاج نتيجة لزيادة حجم OFETs لكل ركيزة مقارنة بمكافآتها ذات الكثافة المنخفضة. يمكن أن يساعد هذا على تمديد ميزانيتك للسماح لك بإنتاج واختبار أعداد أكبر من OFETs.
ثانيا، إنتاج OFETs هو عملية أسرع وأقل شاقة بكثير. يتم تقليل وقت التصنيع بنسبة تصل إلى 50٪ عند استخدام OFETs عالية الكثافة الجاهزة ، مما يحرر المزيد من الوقت لاختبار الأجهزة. ونتيجة لذلك، يمكن إنتاج كميات أكبر من الإحصاءات التي يمكن بدورها توفير أبحاث أكثر قوة وموثوقية.
أوسيلا رقاقة s403 OFET اختبار رقاقة s411
علاوة على ذلك ، يتم تقليل تغير OFET لأن عدد أكبر من OFETs يتم إنتاجه مع كل تصنيع. في أوسيلا قمنا بتحسين عملية التصنيع من أجل إنتاج ركائز عالية الجودة باستمرار. في هذا الصدد، استخدام الركائز الجاهزة لدينا بدلا من تصنيع الخاص بك يمكن أن تساعدك على جمع بيانات أكثر موثوقية لفائدة مشروعك البحثي.
الركائز الجاهزة عالية الكثافة مثالية لاختبار الحركة لأنها تمكن من اختبار سريع وفعال لكميات كبيرة من OFETs. تم تصميم لوحة اختبار OFET عالية الكثافة Ossila لهذا الغرض.
بدلاً من استخدام محطة مسبار ميكانيكية لاختبار OFETs ، وهي عملية حساسة ومستهلكة للوقت ، يسمح لوحة اختبار الكثافة العالية باختبار OFETs متعددة في وقت واحد ؛ ببساطة إسقاط الركيزة في فتحة الاختبار ، وتأمين غطاء الدفع المناسب وربط اللوحة عن طريق موصلات BNC إلى مجموعة من معدات الاختبار.
أوسيلا رقاقة s403 OFET اختبار رقاقة s411
تم تصميم اللوحة بشكل ذكي لتقليل الضوضاء الخارجية وتسرب التيار والقدرة الضالية من أجل توفير اختبار التيار المنخفض الموثوق به والدقيق.
لوحة اختبار أوسيلا عالية الكثافة OFET ، مصممة لاختبار سريع وموثوق به لعدة OFETs.
نحن تصنيع الركائز السيليكون المنشط ب مع طبقة أعلى من أكسيد السيليكون العازلة 300 نانومتر. يتم إيداع البلاتين في الأعلى لإنتاج أقطاب البوابة التي تغطي أيضا الحافة الموصلة للركيزة. لذلك من الضروري أن تكون حافة الركيزة موصلة ولا تغطيها طبقة أكسيد السيليكون. إذا لم يكن كذلك ، يجب خدش أكسيد السيليكون من جانبي الركائز قبل استخدامه.
هيكل ركائز السيليكون / أكسيد السيليكون الجاهزة.
في أوسيلا قمنا بتحسين عملية التصنيع لضمان أن تكون الحواف موصلة وأن الركيزة جاهزة للاستخدام على الفور.
نحن تصنيع ركائزنا عالية الكثافة مع 5 نانومتر من التيتانيوم و 100 نانومتر من البلاتين.
للتفاصيل الفردية والرسومات الأبعاد لكل نوع من الركيزة انظر أدناه.
خطي 1 مم × 2 ميكرومتر متغير طول القناة الركيزة (S403)
| الهندسة | خطي |
| الترتيب | 20 OFETs، 5 عروض القناة |
| عرض القناة | 1 مم |
| طول القناة | 2, 4, 6, 8, and 10 µm |
رسم الأبعاد من 1 مم × 2 ميكروم الركيزة.
Interdigitated 22.6 مم × 5 ميكروم ثابت طول القناة الركيزة (S411)
| الهندسة | متعددة الرقمات |
| الترتيب | 20 OFETs متطابقة |
| عرض القناة | 22.6 mm |
| طول القناة | 5 µm |
رسم أبعاد واحدة من أجهزة 22.6 مم × 5 ميكروم على الركيزة عالية الكثافة.