مطيافية الأشعة السينية من الصعب

مطيافية الانبعاث من الصعب الأشعة السينية ( XES ) هو تقنية تحليلية هامة ، والتي تستخدم أساسا لدراسة هيكل الالكترونية والكيميائية خصائص المواد . الأشعة السينية الصلبة عالية الطاقة ، ويمكن أن تخترق داخل العينة ، مما يجعل XES تصبح أداة قوية للكشف عن المعلومات العميقة من المواد .

رابيد اكس

مطيافية الأشعة السينية من الصعبالأشعة السينية المشتتة للطاقة ( XES ) هي تقنية تحليلية هامة ، وتستخدم أساسا لدراسة هيكل الالكترونية و الخواص الكيميائية للمواد . الأشعة السينية الصلبة عالية الطاقة ، ويمكن أن تخترق داخل العينة ، مما يجعل XES تصبح أداة قوية للكشف عن المعلومات العميقة من المواد . وتشمل مجالات التطبيق الرئيسية XES :

1 - تحليل الحالة الكيميائية : XES يمكن أن توفر معلومات مباشرة عن الحالة الكيميائية للعناصر في العينة ، مثل حالة الأكسدة وتنسيق البيئة ، والتي من المهم جدا أن نفهم الخصائص الكيميائية للمواد و آلية التفاعل .

2 - علم المواد : في تطوير مواد جديدة ، XES يستخدم لتحليل هيكل الالكترونية ، والطاقة هيكل الفرقة التكافؤ المعلومات من المواد .

3 . محفز البحث : XES التكنولوجيا يمكن الكشف عن موقع نشط و البيئة الالكترونية من محفز على المستوى الذري ، مما يجعل من الممكن تصميم أكثر كفاءة محفز .

4 - العلوم البيئية : من خلال تحليل الحالة الكيميائية للملوثات في العينات البيئية ( مثل التربة والمياه والجسيمات الجوية ) ، XES يساعد على فهم مصدر الملوثات ، والهجرة ، وعمليات التحويل .

5 - دراسة مواد الطاقة : XES يوفر معلومات أساسية على المستوى الإلكتروني في دراسة هيكل الالكترونية وآلية عمل الخلايا ، خلايا الوقود ، والطاقة الشمسية المواد .

6 - مجال الطب الحيوي : XES يستخدم لدراسة البيئة المعقدة ايونات المعادن في الجزيئات الحيوية ( مثل البروتينات والانزيمات ) التي تلعب دورا هاما في فهم وظيفة الجزيئات الحيوية وتصميم الأدوية .

7 - علوم الأرض : في دراسة علوم الأرض والكواكب ، XES يمكن تحليل عينات من المعادن والصخور ، وكشف عن تكوينها والظروف البيئية أثناء تكوينها .

من الصعب انبعاث الأشعة السينية الطيفي ( XES ) التكنولوجيا تلعب دورا أكثر وأكثر أهمية في البحث العلمي والتطبيقات الصناعية بسبب العناصر الكيميائية معلومات الدولة ، لا سيما في الحالات التي لا يمكن الكشف عن العناصر النزرة في أعماق العينات مباشرة باستخدام تقنيات أخرى . مع تقدم تكنولوجيا القياس ، XES ومن المتوقع أن تجد تطبيقات في المزيد من المجالات في المستقبل .

مبدأ الصك :

مظهر الصك :

مطيافية الأشعة السينية من الصعبأداة معلمة :

1 . الكشف عن مجموعة الطاقة : 5 ~ 15 كيلو فولت .

2 . مضان قمم ك ، ل ، ل أكتينيدات يمكن قياسها .

3 . الإلكترون حفرة الكفاءة : ≥ 1 × 1011 ؛

4 . الطاقة القرار : ≤ 1.5 إف النحاس كا .

5 . الكشف عن الحد : ≤ 0.1 في المائة من الوزن ؛

6 . التكرار : مسح الطاقة الهجرة المتكررةق50 ميفولت؛

7 . الهيليوم تجويف ، والحد من امتصاص الأشعة السينية الهواء ؛

8 . عالية النقاء سي أو جنرال الكتريك كريستال مستوحد اللون ، وضمان الطاقة في جميع أنحاء المنطقة القرار ؛

9 - تصميم وحدات مختلفة في الموقع اختبار النظام ، بما في ذلك ارتفاع في درجة الحرارة وانخفاض درجة الحرارة ، الحفز غير المتجانس ، electrocatalytic ، الخ .

10 - يتضمن نظام معالجة البيانات ، بيانات طيف الانبعاث الناتج تلقائيا في عملية الحصول على البيانات ، لا تحتاج إلى مزيد من التبديل .

البيانات المرجعية :