quantum العاشر شكل ثنائي الفوتون maskless نظام الطباعة الحجرية

قابلة للتفاوضتحديث01/16

نموذج

طبيعة المصنع: المنتجين

فئة المنتج

مكان المنشأ

استشارة عبر الإنترنت

نظرة عامة

quantum X - شكل ثنائي الفوتون maskless نظام الطباعة الحجرية هو حقا نموذج شامل . على أساس ثنائي الفوتون تكنولوجيا البلمرة ، هذا النظام ليس فقط أفضل نموذج من النماذج الأولية السريعة ، ولكن أيضا مناسبة لأنّ مقياس كبيرة إنتاج 2.5D و 3D الأشكال على أساس أي submicron الدقة على رقاقة . العلامة التجارية الجديدة quantum العاشر شكل يتيح لك طباعة أي 2.5D و 3D مايكرو نانو الهياكل التي توفر درجة حقيقية من حرية التصميم . هذا النظام يمكن أن ندرك أنواع مختلفة من ارتفاع نسبة الجانب الهيكل .

تفاصيل المنتج

نظام الطباعة ثلاثية الأبعاد مثل سوبر الجبهة

شكل الكم X يمكن طباعة أي شكل ، والحد الأدنى من حجم تصل إلى 100 نانومتر في وقت واحد خشونة السطح(R)(أ)وأقل من 5 نانومتر ، أقصى مساحة تصل إلى 25 سم

نظام الطباعة التلقائي مع الغراء إسقاط وحدة وظيفة ، بين عشية وضحاها كفاءة تصل إلى 200 ميزة الهياكل .

الغرض العام عالية الأداء ثنائي الفوتون البوليمر المواد البوليمر والزجاج الطباعة .

إعادة تشكيل الدقة.

كما تم الاعتراف بها من قبل الصناعةنانوسكريبأطلقت الشركة الجيل الثاني من نظام المعالجة على منصة Quantum العاشر ،quantum العاشر شكل ثنائي الفوتون maskless نظام الطباعة الحجريةفي مجال تصنيع نانو 3Dمدهش عاليةدقةنانوسكريبانفراجة في تطبيق الهيكل السطحيثنائي الفوتون الطباعة الحجرية(2GL ®)。 العلامة التجارية الجديدةشكل الكم Xدقة عالية تعتمد على أعلى قدرة فوكسل تعديل نسبة فائقة الدقة تجهيز الشبكة ، وبالتالي تحقيق حجم السيطرة على فوكسل . . . . . . . وبالإضافة إلى ذلك ، الاستفادة منثنائي الفوتون الطباعة الحجريةهذا النظام يمكن أن تصل إلى supersmooth في تصنيع سطح المجهرية مع الحفاظ على دقة عالية شكل السيطرة .

إعادة تشكيل الناتج.

quantum العاشر شكل ثنائي الفوتون maskless نظام الطباعة الحجريةليس فقط في مجال الطب الحيوي ، علم البصريات الدقيقة MEMS、 وفي الوقت نفسه ، فإنه يصبح أداة بسيطة من أجل الإنتاج الضخم من وحدات صغيرة على أساس هيكل رقاقة .

إعادة تشكيل قابلية الاستخدام.

من خلال نظام التكامل شاشة تعمل باللمس التحكم في طباعة الملفات إلى حد كبير تحسين العملية . من خلال نظام Nanoconnectx البرمجيات التي تأتي مع نظام الرصد عن بعد ، متعدد المستخدمين استخدام التكوين ، وتعزيز توحيد الصناعة وكفاءة الإنتاج على أساس رقاقة دفعة واحدة .

السمات الرئيسية :

* الطباعة على نطاق النانو : السيطرة على ميزة الحجم في أي اتجاه الفضاء ، تصل إلى 100 نانومتر

* التحكم فائق السرعة فوكسل وتجهيز شبكة 100nm مع سرعة عالية 3D مايكرو نانو بالقطع

* مراقبة المسار مرآة الاهتزاز يضمن دقة المسار في أسرع سرعة المسح الضوئي

* التلقائي محاذاة الطريق الذاتي يضمن دقة عالية ليزر الطاقة والسيطرة على الموقع

* مجموعة واسعة من ركائز ورقائق السيليكون تصل إلى 6 بوصة

* الإنتاج الضخم الصناعية : 200 معيار mesoscopic هيكل حجم الانتاج بين عشية وضحاها

* يضمن العمليّة وتجربة إحساس من لمس شاشة & بعيد تحكّم عمل

* تصنيع النماذج الأولية السريعة ، عالية الدقة ، ودرجة عالية من حرية التصميم ، بسيطة وواضحة تدفق العمل

* التحقق من الإنتاج الضخم الصناعية رقاقة الصف

* مواد الطباعة للأغراض العامة والخاصة

* متوافقة مع مواد الطباعة المستقلة والطرف الثالث

منتج مماثل يوصي