مسحوق ترسب طبقة الذريةهو نوع من التكنولوجيا التي يمكن أن تمتد إلى إعداد فيلم ترسب طبقة الذرية سطح مسحوق المواد . جوهر هذا الاختراع هو حل المشكلة الصعبة أن المدة التقليدية التكنولوجيا يمكن أن تودع بالتساوي على سطح مسحوق المواد .مبدأ العمل والابتكار
على أساس التقليدية المدة النفس الحد من آلية التفاعل ، مسحوق المواد يمكن أن تعامل بشكل موحد من خلال تصميم خاص مثل المميعة السرير أو الروتاري مفاعل . مسحوق الجسيمات في تعليق أو المتداول الدولة في دائرة رد الفعل ، وبالتالي ضمان أن كل سطح الجسيمات يمكن الاتصال السلائف الغاز بما فيه الكفاية . من خلال التحكم بدقة تسلسل نبض ، جزيء السلائف يمكن أن كثف كيميائيا و تتفاعل على سطح الجسيمات ، وبالتالي تشكيل طبقة واحدة الذرية الفيلم . هذا الأسلوب يضمن دقة الفيلم على المستوى الذري ، وفي الوقت نفسه ، فإنه يحل مشكلة تفاوت التقليدية طلاء الفيلم بسبب مساحة كبيرة من مسحوق المواد .
ثانياً - التحديات التقنية الرئيسية والاختراقات
التحدي الأكبر هو كيفية التأكد من أن جزيئات مسحوق مكشوف تماما و لا تجمع أثناء التفاعل . وقد طور الباحثون العديد من الحلول : المميعة السرير المفاعل يستخدم للحفاظ على الجسيمات العالقة من خلال تدفق الغاز . استخدام الاهتزازات الميكانيكية أو نظام التناوب لتسهيل دوران الجسيمات . تصميم خاص لوحة توزيع الهواء لتحسين توزيع السلائف . هذه الاختراقات التكنولوجية تجعلمسحوق ترسب طبقة الذريةنانو طلاء موحد يمكن تحقيقه ، حتى على مستوى ميكرون مسحوق ، فيلم ممتازة الجودة يمكن الحصول عليها .
ثالثاً - توسيع نطاق التطبيق
تظهر ميزة في العديد من المجالات . في مجال الطاقة الحفز ، رقيقة جدا طبقة واقية أو نشطة طلاء يمكن إعدادها على سطح المحفز الجسيمات لتحسين أداء الحفاز والاستقرار . في مجال الطب الحيوي ، يمكن أن توفر مع الحياة طلاء المخدرات الناقل الجسيمات ، والسيطرة على الافراج عن المخدرات معدل . فائدة نموذج يمكن استخدامها لتعديل سطح القطب المواد في مجال الطاقة الجديدة من المواد ، وبالتالي تحسين دورة حياة البطارية .
مسحوق ترسب طبقة الذريةمن خلال الابتكار في عملية التصميم ، والتكنولوجيا بنجاح يوسع مزايا الدقة ترسب طبقة الذرية في مجال المواد مسحوق ، ويوفر تقنية جديدة مسار سطح نانو مواد الهندسة ، وسوف يكون لها تأثير بعيد المدى في العديد من مجالات التكنولوجيا الفائقة .