مرحبا بكم العميل!

العضوية

مساعدة

Beijing Yingsitao Technology Co., Ltd
مصنع مخصص

المنتجات الرئيسية:

instrumentb2bصمقالة

Beijing Yingsitao Technology Co., Ltd

  • البريد الإلكتروني

    cindy_yst@instonetech.com

  • الهاتف

    18600717106

  • العنوان

    109-878 مبنى رقم 20 ، رقم 9 ، Antai شارع المطار ، حى شونيى ، بكين

اتصل الآن
الحيوانات الأليفة من فريق البحث -- سطح المكتب نظام ترسب طبقة الذرية ( ALD )
التاريخ:2025-08-18اقرأ:2

نظام للطبقة ترسب من جامعة هارفارد

للطبقة ترسب نظام البحث العلمي

مرض التصلب العصبي المتعدد ، مرض التصلب العصبي المتعدد

صغيرة وجميلة المدة في السوق

أنت تستحق ذلك !

انريك تكنولوجيز الصين مكتب الممثل العام

أنريك تكنولوجيزتأسست في عام 2014 ، من قبل جامعة هارفارد المدة عملية الخبير الشهيرفريق البروفيسور روي غوردونمن أجل ملء السوقسطح المكتب الصغيرة ترسب طبقة الذرية( ALD المعدات ) هو أداة تصميم والأمثل للجامعات ، الشركات الناشئة ، وشركات استكشاف للطبقة ترسب ( ALD ) التكنولوجيا ، والبدء في خط الانتاج التجريبي والمهني المصنعين .


وتركز الشركة على البحث في عملية المرض والمعدات ، مع أعضاء التقنية الأساسية من جامعة هارفارد ، التي تراكمت لديها تجربة غنية في عملية المرض ، ويمكن أن توفر للعملاء مع عملية معقدة حلول مخصصة ، هوعينة صغيرة ومنخفضة التكلفة للمستخدمينخياراتمنتدى


1

ترسب طبقة الذرية ( ALD )

للطبقة ترسب ( AVD ) هو نوع خاص من ترسيب الأبخرة الكيميائية ( CVD ) التكنولوجيا ، والتي يمكن أن تشكل الأفلام رقيقة من خلال إدخال الغاز السلائف إلى دائرة رد الفعل بالتناوب وتوليد الغاز الصلبة التفاعلات الكيميائية على سطح الركيزة . المدة هي عادة تتكون من أ و ب semireaction متواليات ، والتي لديها خصائص سطح النفس الحد ، ممتازة ثلاثية الأبعاد conformability ، مساحة كبيرة التوحيد ، submonolayer سماكة الفيلم السيطرة ، وانخفاض درجة حرارة النمو ، وهلم جرا .


2

مبدأ للطبقة ترسب

مبدأ النمو ALD هو ترسب الفيلم على سطح الركيزة طبقة بعد طبقة من خلال رد فعل السلائف بالتناوب .

يمكن تقسيم دورة ترسب طبقة الذرية إلى أربع خطوات :

1 - إدخال السلائف : أول دفعة من السلائف في دائرة رد الفعل ، بحيث سطح الركيزة الكيميائية الامتزاز .

2 - تنظيف الغازات الخاملة : استخدام الغازات الخاملة ( مثل النيتروجين أو الغاز ) لتنظيف دائرة رد الفعل ، وإزالة أول رد فعل السلائف والمنتجات الناتجة عن رد الفعل ؛

3 - إدخال السلائف الثانية : نبض من السلائف الثانية يدخل دائرة رد الفعل ، بحيث تتفاعل مع السلائف الأولى كثف على سطح الركيزة لتشكيل الفيلم .

4 - إعادة تنظيف غاز خامل : إعادة استخدام غاز خامل لإزالة رد الفعل الثاني السلائف والمنتجات .

课题组的宠儿--科研专用台式原子层沉积系统(台式ALD)


3

المقارنة بين المدة وغيرها من عمليات ترسب الفيلم

课题组的宠儿--科研专用台式原子层沉积系统(台式ALD)


4

المدة التطبيق

课题组的宠儿--科研专用台式原子层沉积系统(台式ALD)


5

ميزة المنتج الأساسية

√ يمكن أن توفر عملية دعم الخبراء في هذا المجال

√ صغيرة الحجم وصغيرة الحجم ( مساحة صغيرة )

√ ويعني انخفاض حجم الغرفة سرعة إيداع السلائف والنفايات والحد منها ، فضلا عن تعمقها في هياكل ثلاثية الأبعاد .

√ سريع التسخين ( التبريد )

√ مسافة قصيرة بين السلائف و الدائرة ( تقليل احتمال انسداد الأنابيب )

نجمة المنتج




في 200 متر الحرارية ترسب طبقة الذرية

الحد الأدنى من المدة في السوق

صغيرة بما يكفي لوضع المدة في صندوق القفازات

المدة مسحوق

课题组的宠儿--科研专用台式原子层沉积系统(台式ALD)


في 200 متر بالإضافة إلى البلازما تعزيز ترسيب طبقة الذرية الحرارية


课题组的宠儿--科研专用台式原子层沉积系统(台式ALD)


课题组的宠儿--科研专用台式原子层沉积系统(台式ALD)

at410 / 610 / 810 نوع الحرارية

课题组的宠儿--科研专用台式原子层沉积系统(台式ALD)

课题组的宠儿--科研专用台式原子层沉积系统(台式ALD)

课题组的宠儿--科研专用台式原子层沉积系统(台式ALD)

课题组的宠儿--科研专用台式原子层沉积系统(台式ALD)


at650p / 850p ( البلازما تعزيز at650t / 850t ( نوع الحرارية )

课题组的宠儿--科研专用台式原子层沉积系统(台式ALD)

课题组的宠儿--科研专用台式原子层沉积系统(台式ALD)


at-lt الحرارية نظام ترسب طبقة الذرية

课题组的宠儿--科研专用台式原子层沉积系统(台式ALD)

课题组的宠儿--科研专用台式原子层沉积系统(台式ALD)

العالمية100العديد من المنازلتكرار شراء العملاء

رقم التسلسل

العميل

مجال التطبيق

1

لام البحث ( 6 مجموعات )


و

2

هارفرد


و

3

جامعة هلسنكي

العميل ميكو ريتالا وماتي بوتكونين

4

جامعة واسيدا

أجهزة الاستشعار ، تعديل السطح ، nanoimprint الطباعة الحجرية ، من خلال ثقب التصنيع المتقدمة ( البديل )

5

المعهد الوطني لعلوم المواد

فونون في السطح ، رقيقة ، وانخفاض البعد الذري isopolaritons وتدور في المدار تقسيم المواد النانومترية

6

المعهد الوطني لعلوم المواد

تدور تعتمد على النقل في أنابيب الكربون النانوية ، nanogap تلفيق و النقل الجزيئي ، ذات فجوة الحزمة الهندسة في الجرافين ، الترانزستور العضوية

7

جامعة طوكيو

المدة العملية

8

جامعة طوكيو

الدكتور أونايا

9

جامعة أكسفورد ( 2 أو أكثر )

العميل سيباستيان بونيلا

10

Precision TEM سانتا كلارا، كاليفورنيا

إعداد العينة : HFO ₂ , Alo ₃

11

جامعة نورث وسترن ( الولايات المتحدة الأمريكية )


و

12

جامعة كامبريدج ( المملكة المتحدة )


و

13

بكين معهد علوم المعلومات الكمية


و

14

انس باريس ( فرنسا ، كلية المعلمين )


و

15

جامعة رايس


و

16

جامعة كولومبيا البريطانية ( كندا )


و

17

المواد التطبيقية ، وشركة


و

18

شركة خاصة ( Pivate Company )

بورتلاند ، أوريغون ، الولايات المتحدة الأمريكية

تيم إعداد العينات : HFO ₂ ، منظمة العفو الدولية ₂ س ₃ ، تا ₂ س





课题组的宠儿--科研专用台式原子层沉积系统(台式ALD)