-
البريد الإلكتروني
cindy_yst@instonetech.com
-
الهاتف
18600717106
-
العنوان
109-878 مبنى رقم 20 ، رقم 9 ، Antai شارع المطار ، حى شونيى ، بكين
Beijing Yingsitao Technology Co., Ltd
cindy_yst@instonetech.com
18600717106
109-878 مبنى رقم 20 ، رقم 9 ، Antai شارع المطار ، حى شونيى ، بكين
أنريك تكنولوجيزتأسست في عام 2014 ، من قبل جامعة هارفارد المدة عملية الخبير الشهيرفريق البروفيسور روي غوردونمن أجل ملء السوقسطح المكتب الصغيرة ترسب طبقة الذرية( ALD المعدات ) هو أداة تصميم والأمثل للجامعات ، الشركات الناشئة ، وشركات استكشاف للطبقة ترسب ( ALD ) التكنولوجيا ، والبدء في خط الانتاج التجريبي والمهني المصنعين .
وتركز الشركة على البحث في عملية المرض والمعدات ، مع أعضاء التقنية الأساسية من جامعة هارفارد ، التي تراكمت لديها تجربة غنية في عملية المرض ، ويمكن أن توفر للعملاء مع عملية معقدة حلول مخصصة ، هوعينة صغيرة ومنخفضة التكلفة للمستخدمينخياراتمنتدى
ترسب طبقة الذرية ( ALD )
للطبقة ترسب ( AVD ) هو نوع خاص من ترسيب الأبخرة الكيميائية ( CVD ) التكنولوجيا ، والتي يمكن أن تشكل الأفلام رقيقة من خلال إدخال الغاز السلائف إلى دائرة رد الفعل بالتناوب وتوليد الغاز الصلبة التفاعلات الكيميائية على سطح الركيزة . المدة هي عادة تتكون من أ و ب semireaction متواليات ، والتي لديها خصائص سطح النفس الحد ، ممتازة ثلاثية الأبعاد conformability ، مساحة كبيرة التوحيد ، submonolayer سماكة الفيلم السيطرة ، وانخفاض درجة حرارة النمو ، وهلم جرا .
مبدأ للطبقة ترسب
مبدأ النمو ALD هو ترسب الفيلم على سطح الركيزة طبقة بعد طبقة من خلال رد فعل السلائف بالتناوب .
يمكن تقسيم دورة ترسب طبقة الذرية إلى أربع خطوات :
1 - إدخال السلائف : أول دفعة من السلائف في دائرة رد الفعل ، بحيث سطح الركيزة الكيميائية الامتزاز .
2 - تنظيف الغازات الخاملة : استخدام الغازات الخاملة ( مثل النيتروجين أو الغاز ) لتنظيف دائرة رد الفعل ، وإزالة أول رد فعل السلائف والمنتجات الناتجة عن رد الفعل ؛
3 - إدخال السلائف الثانية : نبض من السلائف الثانية يدخل دائرة رد الفعل ، بحيث تتفاعل مع السلائف الأولى كثف على سطح الركيزة لتشكيل الفيلم .
4 - إعادة تنظيف غاز خامل : إعادة استخدام غاز خامل لإزالة رد الفعل الثاني السلائف والمنتجات .

المقارنة بين المدة وغيرها من عمليات ترسب الفيلم

المدة التطبيق

ميزة المنتج الأساسية
√ يمكن أن توفر عملية دعم الخبراء في هذا المجال
√ صغيرة الحجم وصغيرة الحجم ( مساحة صغيرة )
√ ويعني انخفاض حجم الغرفة سرعة إيداع السلائف والنفايات والحد منها ، فضلا عن تعمقها في هياكل ثلاثية الأبعاد .
√ سريع التسخين ( التبريد )
√ مسافة قصيرة بين السلائف و الدائرة ( تقليل احتمال انسداد الأنابيب )
في 200 متر الحرارية ترسب طبقة الذرية
الحد الأدنى من المدة في السوق
صغيرة بما يكفي لوضع المدة في صندوق القفازات
المدة مسحوق

في 200 متر بالإضافة إلى البلازما تعزيز ترسيب طبقة الذرية الحرارية


at410 / 610 / 810 نوع الحرارية




at650p / 850p ( البلازما تعزيز at650t / 850t ( نوع الحرارية )


at-lt الحرارية نظام ترسب طبقة الذرية


العالمية100العديد من المنازلتكرار شراء العملاء | ||
رقم التسلسل |
العميل |
مجال التطبيق |
1 |
لام البحث ( 6 مجموعات ) |
|
2 |
هارفرد |
|
3 |
جامعة هلسنكي |
العميل ميكو ريتالا وماتي بوتكونين |
4 |
جامعة واسيدا |
أجهزة الاستشعار ، تعديل السطح ، nanoimprint الطباعة الحجرية ، من خلال ثقب التصنيع المتقدمة ( البديل ) |
5 |
المعهد الوطني لعلوم المواد |
فونون في السطح ، رقيقة ، وانخفاض البعد الذري isopolaritons وتدور في المدار تقسيم المواد النانومترية |
6 |
المعهد الوطني لعلوم المواد |
تدور تعتمد على النقل في أنابيب الكربون النانوية ، nanogap تلفيق و النقل الجزيئي ، ذات فجوة الحزمة الهندسة في الجرافين ، الترانزستور العضوية |
7 |
جامعة طوكيو |
المدة العملية |
8 |
جامعة طوكيو |
الدكتور أونايا |
9 |
جامعة أكسفورد ( 2 أو أكثر ) |
العميل سيباستيان بونيلا |
10 |
Precision TEM سانتا كلارا، كاليفورنيا |
إعداد العينة : HFO ₂ , Alo ₃ |
11 |
جامعة نورث وسترن ( الولايات المتحدة الأمريكية ) |
|
12 |
جامعة كامبريدج ( المملكة المتحدة ) |
|
13 |
بكين معهد علوم المعلومات الكمية |
|
14 |
انس باريس ( فرنسا ، كلية المعلمين ) |
|
15 |
جامعة رايس |
|
16 |
جامعة كولومبيا البريطانية ( كندا ) |
|
17 |
المواد التطبيقية ، وشركة |
|
18 |
شركة خاصة ( Pivate Company ) بورتلاند ، أوريغون ، الولايات المتحدة الأمريكية |
تيم إعداد العينات : HFO ₂ ، منظمة العفو الدولية ₂ س ₃ ، تا ₂ س |
