مضخة فراغ الجزيئي low-e خط الانتاج

Pfeifferتطبيق مضخة الجزيئية في low-e خط الانتاج
انخفاض ه الاسم الكامل منخفضة emissivity ، هو انخفاض الإشعاع الزجاج المطلي . بالمقارنة مع انعكاس الحرارة الزجاج ، الزجاج الموفرة للطاقة هو نوع جديد من الزجاج . في الوقت الحاضر ، فراغ المغنطرون الاخرق التكنولوجيا المستخدمة على نطاق واسع في إنتاج منخفضة ه الزجاج . شركة بيرتون الألمانية للبيع Pfeifferمضخة الجزيئيةتطبق بنجاح على هذا .

مبدأالزجاج هو وضعها عموديا على الرف ، يتم إرسالها إلى فراغ البيئة من 10-1 باسكال ، كمية مناسبة من الغاز ( غاز خامل أو غاز خامل ع رد فعل O2 ، N2 ) يتم إدخالها ، فراغ درجة ثابتة . المواد المستهدفة مثل جي ، سي ، وما إلى ذلك هي جزء لا يتجزأ من القطب السالب ، والمجال المغناطيسي هو وضعه في الاتجاه الأفقي الذي هو عمودي على القطب السالب ، وبالتالي تشكيل المغنطرون الهدف . في إطار العمل من الجهد العالي ، عملية الغاز المتأين لتشكيل البلازما . في إطار العمل المشترك من الحقل الكهربائي والمجال المغناطيسي ، الإلكترونات تتحرك في دوامة عالية السرعة ، اصطدام جزيئات الغاز ، وتوليد المزيد من الأيونات الموجبة والالكترونات . في إطار العمل من الحقل الكهربائي ، أيونات إيجابية تصل إلى طاقة معينة ، ثم ضرب الكاثود المواد المستهدفة ، الاخرق المواد المستهدفة المودعة على الزجاج الركازة على شكل فيلم . الكاثود الهدف يتحرك ذهابا وإيابا بالقرب من سطح الزجاج من أجل تشكيل موحد فيلم طبقة . من أجل الحصول على أفلام متعددة الطبقات ، يجب استخدام عدة كاثودات ، كل منها يتحرك جيئة وذهابا على سطح الزجاج على شكل فيلم سمك .

مع أكثر من 120 عاما من الخبرة في تصنيع فراغ ، خدمة ما بعد البيع والدعم التقني في جميع أنحاء العالم ، pfeifer وفاز صالح من العملاء في السوق low-e في ألمانيا . ادنر ( فون اردن ) هو الأكثر نموذجية من العملاء . PFEIFFERمضخة الجزيئيةويستخدم خط إنتاج LOE في شينيى الزجاج ، والزجاج الجنوبي وغيرها من عمالقة صناعة الزجاج في الصين .
Pfeifferمضخة الجزيئيةمزايا

• سرعة ضخ متعددة للعملاء الاختيار ، ضخ السرعة من 1 ، 000 إلى 2 ، 000 لتر / ث
• ح₂, هو و ع ، قوات التحالف₄ارتفاع سرعة الضخ
• تركيب الكلمات من 0 إلى 90 درجة ، 90 إلى 180 درجة
• ارتفاع تدفق الغاز ، حتى ع ، قوات التحالف₄
• المتكاملة ح 1200 وحدة القيادة يمكن أن تكون مرتبطة مباشرة إلى إمدادات الطاقة
• اختيار مقاومة للتآكل
• واجهة غنية : 485 صربيا ، فضلا عن التحكم عن بعد ؛ PROFIBUS أو الأجهزة المتاحة
• الملكية الفكرية 54 و شبه S2
• مستقرة وآمنة مع نظام الدوار
• ماي ، وكالة الفضاء الكندية وتوفالو
• تركيب بسيط