مسامية نيتريد السيليكون شبكة عنصرعالية الأداء شبكة الناقل مصممة خصيصا من أجل انتقال المجهر الإلكتروني ( تيم ) ، والتي تأخذ عالية النقاء السليكون البلوري واحد كقاعدة ، وتغطي طبقة رقيقة جدا من السيليكون نيتريد ( سمك 10-50nm ) كما دعم الفيلم ، ويمكن تحقيق القرار على المستوى الذري التصوير .

　　مسامية نيتريد السيليكون شبكة عنصرميزة :

1 ، المستوى الذري القرار : سمك موحد ، شعاع الإلكترون عالية النفاذية ، وانخفاض الضوضاء في الخلفية ، يمكن أن تظهر بوضوح على المستوى الذري هيكل ، وخاصة بالنسبة الزيغ الكروي المجهر الإلكتروني عالية الدقة توصيف .

2 ، وارتفاع درجة الحرارة المقاومة للتآكل : نيتريد السيليكون الفيلم يمكن أن تحمل درجة حرارة عالية و 1000 ℃ البيئة الحمضية ، ومناسبة لإعداد العينات في درجة حرارة عالية أو تحت ظروف حامضية تيم الملاحظة ، في حين أن شبكة النحاس التقليدية في مثل هذه الظروف من السهل تشويه أو تآكل .

3 ، لا تدخل عنصر الكربون : لا تحتوي على عنصر الكربون ، وتجنب التقليدية فيلم الكربون شبكة الناقل في شعاع الالكترون الإشعاع تحت ترسب الكربون ، وضمان مراقبة طويلة الأجل أو جرعة عالية من الإشعاع عند جودة التصوير مستقرة .

4 ، شعاع الإلكترون جيدة الاختراق : رقيقة جدا نيتريد السيليكون الفيلم لا يحتوي على عنصر الكربون ، يمكن أن تمنع بشكل فعال ترسب الكربون ، والحد من شعاع الالكترون نثر ، وتوفير خلفية واضحة ، وخاصة بالنسبة الزيغ الكروي ذرة القرار توصيف ، يمكن الحصول على جودة عالية تيم الصورة .

طريقة التحضير :

ترسيب الأبخرة الكيميائية ( CVD ) جنبا إلى جنب مع الطباعة الحجرية ، النقش وغيرها من التقنيات المستخدمة في إعداد nanomachining . . . . . . . على سبيل المثال ، أولا ، نيتريد السيليكون رقيقة أودعت على رقاقة السيليكون الركيزة من خلال LPCVD ، ثم أنماط تتشكل على رقاقة السيليكون باستخدام تكنولوجيا الطباعة الحجرية ، ثم هيكل مسامي محفورة من قبل رد الفعل ايون الحفر ( ري ) وغيرها من الأساليب ، وأخيرا الركيزة السيليكون هو إزالتها ، تيم شبكة الناقل مسامية نيتريد السيليكون التي تم الحصول عليها .

عندما يستخدم نموذج المنفعة ، نماذج المنفعة يتجنب التعرض لفترات طويلة في بيئة رطبة أو بيئة تآكل لمنع نيتريد السيليكون الفيلم من تدهور الأداء .