نظرة عامة على خلفية الصناعة
1-1 وضع المغنطرون الاخرق
المغنطرون الاخرقالمادية بخار ترسب ( الترسيب الفيزيائي للبخار )واحدة من الأكثر استخداما وكفاءة أساليب إعداد الفيلم . فإنه يستخدم المجال المغناطيسي للحد من الإلكترونات في البلازما ، وتحسين معدل التأين الغاز ، وبالتالي تحقيق سرعة عالية وموحدة ترسب الفيلم في انخفاض الضغط الجوي و درجة حرارة الركيزة .
و 2أشباه الموصلات ، لوحة العرض ، والطاقة الجديدة ، سطح الهندسةالمغنطرون الاخرق المعدات أصبحت واحدة من المعدات الأساسية في صناعة الأفلام ، التي تتطلب تحسين خصائص الفيلم ( سمك التوحيد ، التحكم في تكوين قوة لاصقة ، الاكتناز ) .
1-2 اتجاهات الصناعة
عملية متقدمة من أشباه الموصلاتالمعادن ربط طبقة ، طبقة الحاجز ، طبقة عازلة ، وما إلى ذلك تتطلب عالية فيلم التوحيد والنقاء .
عرض الكتروضوئيايتو شفافة فيلم موصل ، بوابة معدنية ، متعدد الطبقات البصرية الإنتاج الضخم .
الطاقة الجديدةرقيقة فيلم الخلايا الشمسية ( CIGS ، تيل كد ) ، بطارية ليثيوم أيون القطب الصلبة المنحل بالكهرباء الطلاء .
طلاء الفنية: كربيد أدوات القطع ، يموت ارتداء مقاومة الطلاء الزخرفية .
المغنطرون الاخرق المعدات في السوق العالمية نموا مطردا ، ولا سيما في الصين ، تايوان ، كوريا الجنوبية ، اليابان ، الصين ، في توسيع القدرات والتكرار التكنولوجي نشطة .

ثانياً - مبدأ العمل
2-1 العمليات الفيزيائية الأساسية
جوهر المغنطرون الاخرق هو استخدامعالية الطاقة ايون القصف على سطح الهدفالهدف من ذرات أو جزيئات الهروب ( الاخرق ) وترسب على سطح الركيزة على شكل فيلم . الخطوات الرئيسية هي كما يلي :
إنشاء بيئة فراغ
تجويف ضخ فراغ عالية ( 10 ⁻ ⁴ ~ 10 ⁻ ⁶ السلطة الفلسطينية ) ، والحد من تلوث الغاز المتبقي على الفيلم .
ملء الغاز العامل
في العام ، الأرجون ( ع ) ، بعض العمليات إضافة رد فعل الغازات ( o ₂ n ₂ , ch ₄ , الخ ) على شكل فيلم مركب .
توليد البلازما
تطبيق الجهد العالي ( العاصمة أو الترددات اللاسلكية ) بين الهدف و الركيزة يؤدي إلى توهج التفريغ ، وبالتالي تشكيل البلازما التي تحتوي على ع ⁺ ، والإلكترون ، الخ .
المجال المغناطيسي مقيدة الإلكترونات الثانوية
مغناطيس دائم أو لفائف الكهرومغناطيسية مرتبة بالقرب من سطح الهدف على شكل حقل مغناطيسي مغلق ( مشترك " المدرج " شكل الحقل المغناطيسي ) ، مما يجعل الإلكترونات الثانوية تتحرك بشكل حلزوني على طول خط القوة المغناطيسية ، وإطالة مسار في منطقة البلازما ، ومن الواضح أن تحسين معدل الأرجون التأين ، وتعزيز كفاءة الاخرق ، والحد من ارتفاع درجة الحرارة من الركيزة .
الهدف الاخرق الذرية
الطاقة العالية ع ⁺ القصف على الهدف ، الهدف من الذرات الحصول على الطاقة الحركية من شعرية تطير نحو المصفوفة .
رقيقة ترسب
الاخرق الذرات تهاجر ، التنوي والنمو على سطح الركيزة . إذا كان رد فعل الغاز هو عرض ، فيلم مركب مثل أكسيد نيتريد يمكن أن تتولد على السطح .
تأثير المجال المغناطيسي وميزة
زيادة معدل التأين: تمديد مسار الإلكترون → المزيد من التأين الذري ع → أعلى الاخرق العائد
انخفاض درجة حرارة الركيزة: الحد من الطاقة العالية الإلكترون مباشرة قصف الركيزة → تحميل الحرارية الصغيرة ، ومناسبة الحرارية الحساسة الركيزة
زيادة معدل الترسيب: بالمقارنة مع المعدل العادي ديود الاخرق يمكن زيادة عدة مرات
تحسين سماكة الفيلم التوحيدالنتائج التجريبية تبين أن توزيع كثافة البلازما هو أكثر تجانسا
ثالثاً - الأنواع الرئيسية
| | | |
| | مناسبة لأنّ إجراء الهدف ( المعادن ) ، وارتفاع معدل الترسيب | النحاس ، آل ، مو فيلم معدنية |
| الترددات اللاسلكية المغنطرون الاخرق | الترددات اللاسلكية السلطة ( 13.56 ميغاهيرتز ) | يمكن استخدامها لأغراض العزل ( السيراميك ، وأكاسيد ) | |
| المتوسطة التردد / نابض المغنطرون الاخرق | إذا كان التيار المتردد أو نبض العاصمة | الحد من قوس ، وتحسين التوحيد من الفيلم | سبيكة الفيلم ، فيلم متعدد الطبقات |
| رد الفعل المغنطرون الاخرق | | | |
تطبيق في مجال ترسب الفيلم
أشباه الموصلات والالكترونيات الدقيقة
ربط طبقة معدنية: النحاس ، آل ، ث وغيرها من الأفلام المعدنية المستخدمة في رقاقة الأسلاك الداخلية وملء الاتصال الثقوب .
طبقة الحاجز / طبقة البذور: تي ، القصدير ، تا ، تان منع انتشار المعادن وتعزيز التصاق الطلاء البذور طبقة .
طبقة عازلة: sio-n و si-n تستخدم طبقة عازلة ، طبقة التخميل .
4-2 عرض لوحة مسطحة مع كهرضوئي
موصل شفافة فيلم ( TCO ): ايتو ( في ₂ س : القصدير ) ، الآزو ( الزنك : آل ) المستخدمة في شاشات الكريستال السائل / لقد اخترت الكهربائي ، شاشة تعمل باللمس .
بوابة معدنية طبقة عاكسة: جي ، آل ، مو المستخدمة في الدوائر المعدنية ، وتعزيز التفكير .
الفيلم البصريةمتعدد الطبقات فيلم عازلة لتحقيق المضادة للانعكاس ، انعكاس عالية ، فلتر ، وغيرها من المهام .
4-3 مجال الطاقة الجديدة
الخلايا الشمسية رقيقة: CIGS CdTe امتصاص طبقة ; أكسيد الزنك ، i-zno نافذة طبقة .
بطارية ليثيوم أيون: قاعدة السيليكون ، طلاء الكربون القطب السالب . الصلبة المنحل بالكهرباء الفيلم .
خلايا الوقود:Pt、 الكربون دعم محفز ترسب الفيلم .
هندسة السطوح وظيفية الطلاء
طلاء الصلبالقصدير ، CRN ، ticn تحسين ارتداء مقاومة أداة ويموت .
المضادة للتآكل / ديكور فيلم:Ni、Cr、Au、 لون تيو ₂ المستخدمة في الأجهزة ، والساعات ، وبناء الديكور .
طلاء الجدار العازل الحراري ( مع غيرها من العمليات ): YSZ ( الإيتريوم استقرت زركونيا ) وغيرها من الأفلام السيراميك .
خامساً - المزايا والتحديات التكنولوجية
5-1 المزايا
عنصر التحكم: يمكن أن تنتج المعادن النقية ، وسبائك ، فيلم مركب
التصاق قوي: الجسيمات عالية الطاقة القصف تعزيز واجهة ملزمة
مساحة كبيرة التوحيد جيدة: مناسبة للإنتاج الصناعي المستمر
عملية التكرار جيدة وسهلة التشغيل الآلي
5-2 التحديات
انخفاض معدل استخدام المواد المستهدفةجولة الهدف الاخرق بسرعة في المركز ، حافة بطيئة ، معدل استخدام عادة < 30 ٪ ؛ يمكن تحسين دوران الهدف .
البلازما التجانسسمك / تكوين التدرج من السهل أن تظهر في مساحة كبيرة من الرواسب ، لذلك فمن الضروري لتحسين تصميم تدفق الهواء والمجال المغناطيسي .
من الصعب السيطرة على رد الفعل الاخرقالضغط الجزئي من رد فعل الغاز يجب أن تسيطر عليها بدقة ، وإلا فإن الهدف سوف تنتج التسمم ( عزل المركبات المغلفة سطح الهدف يؤدي إلى قوس التفريغ ) .
ارتفاع تكلفة الاستثمار في المعدات والصيانةنظام فراغ ، وإمدادات الطاقة ، المجال المغناطيسي نظام الدقة ، وصيانة عالية المتطلبات التقنية .
سادساً - اتجاهات التنمية
عالية الطاقة نابض المغنطرون الاخرق ( hipims ) .عالية الطاقة الذروة يمكن أن تنتج البلازما مع ارتفاع معدل التأين ، والتي يمكن استخدامها لإعداد nanocrystalline عمودي أو الأفلام التي هي أقرب إلى معظم خصائص .
مساحة كبيرة / لفة إلى لفة ( R2R ) الاخرقعرض مرنة رقيقة الضوئية ، لتحقيق الإنتاج المستمر ، وخفض التكاليف .
ذكي التحكم الرقميالمجلس التشريعي الفلسطيني + مس نظام عرض لتحقيق في الوقت الحقيقي رصد وضبط النفس من المعلمات العملية ، وتحسين العائد والاتساق .
التصنيع الأخضرالحد من انبعاث الغازات الضارة ، وتحسين معدل استخدام المواد المستهدفة ، وتطوير تكنولوجيا إعادة تدوير المواد المستهدفة .
متعددة الوظائف مركب ترسبواجهة تعديل أو متعدد الطبقات heterostructure ترسب يمكن أن تتحقق من خلال الجمع بين شعاع ايون بمساعدة البلازما المعالجة .
سابعاً - ملاحظات ختامية
المغنطرون الاخرق طلاء المعداتبحكمعالية السرعة ، موحدة ، يمكن السيطرة عليهاوقد لعبت دورا هاما في مجال أشباه الموصلات ، الإلكترونيات الضوئية ، والطاقة ، سطح الهندسة . جنبا إلى جنب مع تطوير عالية الطاقة نبض ، مساحة كبيرة الاستمرارية و التحكم الذكي ، وسوف تلعب دورا أكثر أهمية في الجيل القادم من الأفلام عالية الأداء تلفيق . المشاركين في الصناعةالهدف الأمثل ، البلازما التوحيد السيطرة ، معدات العقلنةمن أجل تلبية الطلب المتزايد على جودة عالية فيلم في السوق .