عرض المعدات

مجهر مسح بالإلكترون + شعاع الإلكترون التعرض

زايس سيغما 300 مجهر مسح بالإلكترون ( SEM ) يستخدم لمراقبة سطح هيكل المواد الموصلة في ميكرون و submicron المستويات . اتجاه مكثف يستخدم أساسا للتحقق من صحة النتائج التي تم الحصول عليها من المواد مثل الدوائر الصغرى ، الدليل الموجي ، الخ .

شعاع الإلكترون التعرض البرمجيات المستخدمة في المسح المجهر الالكتروني ( SEM ) ، والتي يمكن تحقيق البعد تصميم الدوائر والتعرض .

مؤشرات الأداء : القرار : 20nm - 10KV ، وتسريع الجهد : 100V - 30KV ، التكبير : 50-500K ، كاشف : كاشف الإلكترونية الثانوية SE2 ، للكشف عن الأشعة تحت الحمراء للكشف عن اتفاقية مكافحة التصحر الكاميرا Inlens .

التطبيقات الرئيسية : مناسبة لمراقبة تضاريس السطح من المواد الموصلة وغير الموصلة ، والحصول على صورة من الإلكترونات الثانوية تضاريس السطح .

متطلبات العينة : الصلبة غير مسحوق جاف عينة ، عينة سطح نظيف ، لا الشحوم ، لا المغناطيسية ، وليس من السهل أن تكون ممغنط ، عينة لا تحتوي على الحديد والكوبالت والنيكل . ارتفاع أقل من 20 ملم ، قطرها أقل من 50 ملم . المسامية أو عينة من السهل أن تكون رطبة ، يرجى فراغ التجفيف مقدما . العينة يجب أن يكون موصل . إذا كانت العينة ليست موصلة ، فإنه يحتاج إلى طلاء الذهب ، الكربون وغيرها من الأفلام .

ملاحظة : هذه المادة مستنسخة في شنغهاي جامعة جياوتونغ كلية الفيزياء والفلك نشرة منصة《مجهر مسح بالإلكترون و شعاع الإلكترون التعرضق