مرحبا بكم العميل!

العضوية

مساعدة

Anhui Beike Equipment Technology Co., Ltd
مصنع مخصص

المنتجات الرئيسية:

instrumentb2bصمقالة

Anhui Beike Equipment Technology Co., Ltd

  • البريد الإلكتروني

    ahbeq888@163.com

  • الهاتف

    17305697718

  • العنوان

    beiyike feixi قاعدة ، رقم 6 Yixiu الطريق ، مدينة خفى بمقاطعة انهوى

اتصل الآن
PECVD النظام ( البلازما تعزيز ترسيب الأبخرة الكيميائية ) : التكنولوجيا الأساسية من أجل إعداد درجة حرارة منخفضة وكفاءة عالية رقيقة الأفلام
التاريخ:2025-11-16اقرأ:0
في مجال أشباه الموصلات ، وتصنيع الآلات الدقيقة نانو ، طلاء البصرية ، والطاقة الجديدة والمواد ، إعداد عالية الجودة رقيقة هو حجر الزاوية في أداء الجهاز . البلازما تعزيز ترسيب الأبخرة الكيميائية ( PECVD ) النظام ، مع تعزيز تأثير البلازما ، يمكن تحقيق كفاءة عالية ترسب الأفلام ذات جودة عالية في درجة حرارة منخفضة نسبيا .
  نظام PECVDجوهر التكنولوجيا هو استخدام البلازما النشاط . عن طريق إثارة رد فعل الغاز ( السلائف ) في حالة البلازما في فراغ الغرفة ، عدد كبير من الأيونات النشطة للغاية ، والإلكترونات الجذور الحرة التي تم إنشاؤها . هذه المجموعات النشطة إلى حد كبير يقلل من طاقة التنشيط اللازمة للتفاعل الكيميائي ، وبالتالي تحقيق اثنين من المزايا الأساسية :
1 ، وانخفاض درجة حرارة ترسيب القدرة : بالمقارنة مع التقليدية الساخنة الأمراض القلبية الوعائية يتطلب مئات درجة مئوية أو حتى الآلاف من درجات الحرارة الركيزة ، PECVD العملية عادة في مئات درجة مئوية أو حتى أقل من درجة الحرارة يمكن أن يتحقق في ترسب الفيلم . هذه الخاصية تجعل من الممكن تطبيقها على نطاق واسع في درجة حرارة عالية مقاومة المواد الأساسية ، مثل البلاستيك البوليمر ، الانتهاء من الدوائر الممعدنه رقاقة مرنة الركيزة الالكترونية ، وما إلى ذلك ، إلى حد كبير توسيع نطاق تطبيق المشهد .
2 ، ونوعية ممتازة من الأفلام و خصائص قابلة للتعديل : PECVD إعداد الأفلام المدمجة ، موحدة ، التصاق قوي ، خطوة تغطية جيدة وغيرها من الخصائص . من خلال التحكم بدقة البلازما الطاقة ، الضغط الجوي ، نسبة تدفق الغاز ، ودرجة الحرارة ، وما إلى ذلك ، الإجهاد ، معامل الانكسار ، الخصائص الكهربائية ( على سبيل المثال ، ثابت العزل الكهربائي ) استوكيومتري نسبة الأفلام يمكن أن تنظم على نحو فعال .

PECVD系统

يمكن استخدام نظام PECVD لإعداد أفلام متعددة الوظائف ، بما في ذلك ولكن لا تقتصر على :
1 ، نيتريد السيليكون رقيقة : ممتازة طبقة التخميل ، اخفاء طبقة ، طبقة عازلة ، وتستخدم على نطاق واسع في الدوائر المتكاملة والخلايا الشمسية .
2 ، ثاني أكسيد السيليكون رقيقة : تستخدم عادة طبقة عازلة .
3 . غير متبلور السليكون / الجريزوفولفين السيليكون الأغشية الرقيقة : المستخدمة في الترانزستورات رقيقة والأفلام الرقيقة الخلايا الشمسية .
4 ، الماس مثل الكربون فيلم : ارتداء مقاومة ، والحد من الاحتكاك طلاء واقية .
نظام PECVD بنجاح يجمع بين كفاءة عالية معدل الترسيب ، فيلم ممتاز الجودة مع ظروف عملية معتدلة . ظهوره هو قفزة كبيرة إلى الأمام في تكنولوجيا الأغشية الرقيقة ، وتوفير الدعم التقني القوي لتطوير صناعة التكنولوجيا العالية الحديثة .